[뉴스비전e 정윤수 기자] SK하이닉스가 해외 법인을 포함 올해 시설투자 규모를 9조6천억원으로 확대한다고 밝혔다. 

시장 환경 변화에 적극적으로 대응하고, 사업경쟁력 강화와 미래성장 기반 확보를 위해서다. 

당초 투자규모는 7조원이었다.

미래 성장동력 확보를 위한 신규 클린룸 건설, 기반 인프라 및 연구개발이 추가됐다.  

이외 기존 계획대로, DRAM 수요의 안정적인 대응 및 3D NAND 의 생산능력 확대를 위한 투자, 10나 노급 DRAM 양산과 48단 및 72단 3D NAND 전개를 위한 투자 및  중장기 경쟁력 강화를 위한 신규 클린룸 건설 및 관련 인프라 투자 등도 진행될 예정이다.